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Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena是物理與天體物理領域的一本優(yōu)秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1972年,該期刊主要刊載物理-光譜學及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展,更以其深厚的學術積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學術價值。此外,該刊同時被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,并被劃分為中科院SCI4區(qū)期刊,它始終堅持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果,不斷推動物理與天體物理領域的進步。
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大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:SPECTROSCOPY | SCIE | Q2 | 22 / 44 |
51.1% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:SPECTROSCOPY | SCIE | Q2 | 16 / 44 |
64.77% |
學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Radiation | Q2 | 26 / 58 |
56% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 116 / 224 |
48% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q3 | 227 / 434 |
47% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 158 / 284 |
44% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Physical and Theoretical Chemistry | Q3 | 115 / 189 |
39% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Spectroscopy | Q3 | 49 / 76 |
36% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 151 | 150 | 88 | 84 | 102 | 84 | 68 | 58 | 61 | 74 |
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
USA | 39 |
CHINA MAINLAND | 31 |
GERMANY (FED REP GER) | 30 |
India | 28 |
Japan | 26 |
Italy | 19 |
Russia | 15 |
Sweden | 15 |
France | 13 |
Poland | 12 |
機構(gòu) | 數(shù)量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) | 12 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 11 |
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) | 9 |
TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN | 9 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) | 8 |
HELMHOLTZ ASSOCIATION | 8 |
UPPSALA UNIVERSITY | 8 |
CZECH ACADEMY OF SCIENCES | 7 |
HUNAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 7 |
UNIVERSITY OF DELHI | 7 |
文章名稱 | 引用次數(shù) |
XPS in industry-Problems with binding energies in journals and binding energy databases | 15 |
Chemical bonding in carbide MXene nanosheets | 14 |
Chemical surface analysis on materials and devices under functional conditions - Environmental photoelectron spectroscopy as non-destructive tool for routine characterization | 11 |
Imaging XPS for industrial applications | 10 |
Automated electron-optical system optimization through switching Levenberg-Marquardt algorithms | 10 |
Electronic and magnetic properties of the (001) surface of the CoNbMnSi Heusler alloy: First-principles calculations | 9 |
Reliable absorbance measurement of liquid samples in soft X-ray absorption spectroscopy in transmission mode | 9 |
Electronic properties of composite iron (II, III) oxide (Fe3O4) carbonaceous absorber materials by electron spectroscopy | 8 |
Investigation of local geometrical structure, electronic state and magnetic properties of PLD grown Ni doped SnO2 thin films | 6 |
Effect of argon sputtering on XPS depth-profiling results of Si/Nb/Si | 6 |
SCIE
影響因子 4.2
CiteScore 1.5
SCIE
影響因子 0.9
CiteScore 1.6
SCIE
影響因子 1.8
CiteScore 3.1
SCIE
影響因子 2.7
CiteScore 6.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.4
SCIE
CiteScore 4
SCIE
影響因子 4.8
CiteScore 6.7
SCIE
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 0.7
CiteScore 1.4
SCIE
影響因子 1.3
CiteScore 2.7
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